京東方4.7英寸650PPI光刻法AMQLED亮相2023 SID

BOE(京東方)這款光刻法AMQLED樣機對比度超過10,000,000 : 1,色域可達85% BT2020,是京東方繼自主研發(fā)出5英寸、14英寸、55英寸4K(80PPI)、55英寸8K(160PPI)等多款電致發(fā)光AMQLED顯示屏后,所推出的又一款顛覆性AMQLED技術,再一次引領了量子點顯示的行業(yè)技術新風向,也標志著京東方率先將AMQLED這一顛覆性創(chuàng)新顯示技術進入量產(chǎn)驗證階段,進一步提升了中國顯示產(chǎn)業(yè)在全球的領先地位。

1、無需FMM,制程更簡單,產(chǎn)品開發(fā)更高效

BOE(京東方)開發(fā)的量子點直接光刻(DP-QLED)工藝,僅需要涂膜、曝光、顯影三步即實現(xiàn)了一種量子點的圖案化;相對于其它光刻圖案化工藝,步驟減少,無需引入附加結構,可有效提升效率、成本可大幅降低。該工藝無需使用昂貴且制作周期長的精細金屬掩模版(FMM),通過使用成熟度高的曝光光罩,量子點直接光刻(DP-QLED)即可在全尺寸領域范圍內實現(xiàn)高度自由的尺寸與像素密度的規(guī)格組合、高度自由的像素排布設計、更高的開口率和器件壽命、更簡單的工藝制程及更靈活、高效的產(chǎn)品開發(fā)。

2、突破傳統(tǒng)制程分辨率限制,助力實現(xiàn)顯示領域全尺寸覆蓋

由于量子點材料為無機納米粒子,此前業(yè)界普遍認為其量產(chǎn)方式為噴墨打印工藝。由于噴墨打印精度的限制,其應用領域通常被認為局限在300PPI及以下分辨率的大尺寸顯示產(chǎn)品。BOE(京東方)特有的量子點直接光刻(DP-QLED)圖案化工藝,突破了傳統(tǒng)蒸鍍與噴墨打印制程對分辨率的限制,其分辨率理論上取決于曝光機及光罩的精度,在原理上甚至可以得到亞微米級的圖案線寬,達到10000PPI以上的像素密度。

BOE(京東方)量子點光刻法極大推動了QLED技術在中、小尺寸面板市場以及微顯示市場的商業(yè)化進程,助力實現(xiàn)QLED技術在顯示領域的全尺寸覆蓋,為客戶帶來極致的視覺體驗。